物理清洗是利用力学、声学、光学、电学、热学的原理，依靠外来能量的作用，如机械摩擦、超声波、负压、高压、冲击、紫外线、蒸汽等去除物体表面污垢而不改变污类组分的清洗方法。即不改变原来的化学分子组分的方法。

①机械清洗法：清扫器和刮刀清理法、钻管清洗法、喷丸清洗法。

②水力清洗法：低压水力清洗（低压清洗的压力为196-686千帕，大约2-7公斤力/平方厘米，等于0.2-0.7Mpa）。

③高压水力清洗：高压清洗的压力为4900千帕，大约50公斤力/平方厘米，等于5Mpa。这种情况方法也叫高压水射流法、高压清洗机。

化学清洗是依靠化学反应的作用，利用化学药品或其它溶剂清除物体表面污垢的方法。如用各种无机或有机酸去除物体表面的锈迹、水垢，用氧化剂去除物体表面的色斑等。利用化学药剂使表面污染或覆盖层（如垢层）与其发生化学反应而被除去，如对垢层的酸洗、碱洗等。为使基材在化学清洗中不受腐蚀或使腐蚀率控制在允许范围内，通常在化学清洗液中要加入适量的缓蚀剂和起活化、渗透、润湿作用的添加剂。方法：浸泡法、循环法、运转中清洗法也叫不停车化学清洗法。

电子清洗法防垢、除垢原理是：利用高频电场改变水的分子结构，使其防垢和除垢。当水通过高频电场时，其分子物理结构发生了变化，原来的缔合链状大分子，断裂成单个水分子，水中盐类的正负离子被单个水分子包围，运动速度降低，有效碰撞次数减少，静电引力下降，无法在受热壁式管面上结构，从而达到防垢目的。同时由于水分子偶极矩增大，使其与盐的正负离子（水垢分子吸合能力增大，使受热面或管壁上的水垢变得松软，容易脱落，产生了除垢的效果。

化工设备（英文名称Chemical Equipment）是化工机械（chemicanl machinery）的一部分，化工机械包括两部分，其一是化工机器，主要是指诸如流体输送的风机、压缩机、各种泵等设备，其主要部件是运动的机械，一般称为化工机器。其二是化工设备主要是指部件是静止的机械，诸如塔器等分离设备，容器、反应器设备等，有时也称为非标准设备。化工机械与其他机械的划分不是很严格的，例如一些用于化工过程的机泵，也是其他工业部门采用的通用设备。同样在化工过程中化工机器和化工设备间也没有严格的区分。例如一些反应器也常常装有运动的机器。