包括棘轮扳手、开口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺丝刀等，铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后，再使用抛光剂配合振动研磨光饰机，滚桶式研磨光式机进行抛光。 1、抛光剂投放量为（根据不同产品的大小，光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置）； 2、抛光时间：根据产品的状态来定； 3、抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。

抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。 抛光表面反应物脱离硅单晶表面，即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。

依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等，对硅单晶片化学机械抛光（CMP）机理、动力学控制过程和影响因素研究标明，化学机械抛光是一个复杂的多相反应，它存在着两个动力学过程。

地坪抛光液用处十分广泛，可用于水泥制品、大理石、水磨石、耐磨骨料等为根底外表抛光，它的特色便是进入地坪，在枯燥的进程中和混凝土粘结在一起，枯燥后经过物理抛光，能赋予地坪超亮的光泽的一起，还能进步外表的防水、防尘、抗污保洁和抗磨性能。经过上面的介绍，咱们在施工硬化地坪时，十分有必要用地坪抛光液进行抛光，由于地坪抛光液不单单仅仅进步地坪的光泽度，还能进步地上抗渗、防尘、抗污保洁的功用，让地坪更有质感的一起，也能更好的对地上进行维护。可以说硬化地坪运用抛光液进行抛光并非弄巧成拙而是如虎添翼，让硬化地坪的作用更上一层楼！

氧化铝和碳化硅抛光液 是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。 主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。

氧化铈抛光液 氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。 适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。