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硅面平整化之后，表面会有研磨液研磨之后的颗粒残留，会大大影响成品率，所以 还需要使用清洗液对表面进行清洗，业界主要使用的方法有机械刷片法和超声波清洗法。机械刷片法使用聚乙烯醇制成的刷子，可以有效去除硅片表面残留物且不损 伤硅片表面，但对去除金属杂质作用不突出。毛刷与硅片转速、毛刷与硅片之间的 压力都是影响终清洗效果的重要因素。超声波清洗利用几百至几千压强的微激波 击碎残留物，同时使有机物迅速分解乳化。这种方法的优点是速度快，适用于去除 大颗粒残留，但对小于1um的颗粒残留清洗效果下降。声波的频率、能量、清洗液 的化学成分以及浓度是影响清洗效果的主要因素。