净室的定义为：将空间范围内之空气中的微尘粒子等污染物排除，而得到一个相当洁净的环境。亦即：这个环境中的微尘粒子相当少，称之为净室。净室被广泛地应用在对环境污染特别敏感的行业，例如半导体生产、生化技术、生物技术、精密机械、制药、和医院内的手术室等行业等，其中以半导体业其对室内之温湿度、洁净度要求尤其严格、故其必需控制在某一个需求范围内，才不会对制程产生影响。作为生产设施，净室可以占据厂房很多位置。
净室系统，制造匹配规格之洁净空气，连续且稳定供给足够之洁净空气于使用端，净室内的制造区（FAB）。一般而言，制造洁净空气之气源为外气（OUTSIDE AIR），经过净室系统各种处理单元设备之处理后进而得到匹配规格之洁净空气。以下简单介绍其处理流程：外气经由外气空调箱（Make-up Air Unit或MAU）初步过滤微尘（particle）并控制其温湿度后，经由回风管道间（Mech. Chase），将净室之循环风量与外气空调箱之补充风量混合，经由冷却盘管（Dry Cooling Coil）将回风管道间之回风降温至净室要求之规格，透过循环风扇（Fan Filter Unit或FFU）带动净室的气流循环带走微尘及热量，后经过超高性能过滤网（Ultra-low penetration air或ULPA Filter）过滤后，供应至Fab区。
半导体厂净室室内压力大小半导体厂净室室内压力必须比室外高些许，除了为避免室外的温、湿度、微粒影响净室生产区的环境条件外，并可延长净室ULPAfilter的寿命，但不能无条件增加，如此将使向外逸散的洁净空气增加而增加运转成本。
气流分布须均匀净室空调为带走净室内所产生的微尘粒子以维持洁净度故除了气流速度须达到一定之要求标准外，气流的流线形状也必须依不同的净室档次加以适当的控制。
单层厂房在满足一定建筑模数要求的基础上视工艺需要确定其建筑宽度（跨度）、长度和高度。厂房的跨度B：一般为6、9、12、15、18、21、24、27、30、36m……。厂房的长度L：少则几十米，多则数百米。厂房的高度H：低的一般5～6m，高的可达30～40m，甚至更高。厂房的跨度和高度是厂房照明设计中考虑的主要因素。
另外，根据工业生产连续性及工段间产品运输的需要，多数工业厂房内设有吊车，其起重量轻的可为3～5t，大的可达数百吨（机械行业单台吊车起重量可达800t）。因此，工厂照明通常采用装在屋架上的灯具来实现。